先进的光学成像系统结合深度学习算法，可捕捉晶圆表面 Crack、Pit 等微小缺陷，检测精度达亚微米级。例如，EFEM 的自动缺陷分类（ADC）功能通过自研算法实现缺陷类型的快速识别，效率提升 3 倍。在检测过程中，EFEM 内部的自动压力控制系统维持稳定环境，确保检测结果的可靠性。这种传输与检测的一体化设计，使 EFEM 成为半导体质量管控的核心环节。
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