光刻机工件台需要在曝光瞬间将晶圆精准定位并保持绝对稳定（精度常在几纳米内），并在曝光间隙快速步进到下一个曝光场（步进速度可达1m/s以上，加速度高达几个G）。传统驱动方式（如旋转电机+丝杠）在速度、精度、响应速度上均无法满足如此苛刻的要求。直线电机的优势在此体现：
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纳米级定位与同步精度： 直线电机结合高分辨率光栅尺和先进控制算法，可实现亚纳米级的定位精度和同步精度，确保曝光图案的完美套刻（Overlay）。
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超高动态响应： 直接驱动带来近乎瞬时的力响应，实现高速、高加速度的步进和精密的伺服控制，极大缩短整片晶圆的曝光时间（Throughput）。
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无反向间隙与摩擦： 消除传动链的间隙和摩擦非线性影响，运动平滑，轨迹跟踪精度极高。
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高刚性与低热变形： 精密设计的直线电机结构刚性好，且热管理优化，热变形极小，保证长期运动稳定性。
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磁悬浮（可选）： 部分高端应用采用无接触磁悬浮直线电机，彻底消除机械摩擦，实现更精度的可能性。
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可以说，没有高性能直线电机的支撑，现代EUV和ArF浸没式光刻机所要求的惊人精度和产能将无法实现。我们为光刻机工件台量身定制的高刚度、超低热、纳米级精度的直线电机模组，是助力客户攀登光刻精度巅峰的坚实伙伴。
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