半导体制造:光刻机的纳米级运动控制
2025/8/11 14:54:16 来源 admin
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行业痛点

光刻机需在硅片上雕刻纳米级电路,传统旋转电机因机械传动背隙难以满足精度需求,直线电机成为唯一解决方案。

技术优势

直接驱动:消除丝杠、皮带造成的背隙,定位精度达±40nm100mm行程内);

高速响应:电流环刷新速度670纳秒,适应光刻机掩模台高频微调;

洁净环境适配:无机械摩擦,避免微粒污染,符合ISO Class 1洁净标准。

国产突破案例

河南东微电子的直线电机通过中芯国际、长鑫存储认证,打破国外垄断,成为国家“卡脖子”技术攻关项目

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