半导体光刻:三大平台协同作战
2025/8/12 14:38:05 来源 admin
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光刻机运动系统架构

气浮平台:承载硅片,实现纳米级稳定运动;

XY平台:驱动掩模版高速扫描;

龙门双驱:控制镜头组大跨度精密定位。

国产化案例

清华大学研发的28nm光刻原型机:

气浮工件台:300×300mmZ轴跳动<5nm

掩模台XY平台:加速度2g,同步误差±1nm

龙门双驱镜头定位:跨距1.2米,面型精度λ/50(λ=633nm)。

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